各位
第250回 TMC技術研修会の開催について
令和8年7月の技術研修会を下記の通り開催いたします。
今回もオンラインです。ふるってご参加のほどお願い申し上げます。
主催：特定非営利活動法人 テクノメイトコープ（TMC）
開催日時：令和8年7月22日（水） ZOOMによるwebセミナー
13時30分～15時40分 （webサイトオープン13時15分頃予定）
申し込みは 下記URLから
https://forms.gle/5ek7ZG5N9eqzttGm9
あいさつ：13:30~13:35 綿野理事長
講 演Ⅰ：13:35~14:35
演題 「セルフカウンセリングのすすめ」
講師 松田 義隆氏（GKNドライブラインジャパン(株) 人事部 シニアHRBP、EAPメンタルヘルスカウンセラー（eMC®️）、
TMC監事）
概要 「どんな場面でも役立つ「セルフカウンセリング」を身につけてみませんか？自分の気持ちや考えに気づき、整えることで、仕事や人間関係のストレスにしなやかに対応する力を育てます。演者が普段使いしている、すぐに実践できるヒントをお届けします。
講 演Ⅱ：14:40~15:40
演題 「半導体フォトレジストの開発状況と半導体産業の動向」
講師 堀邊 英夫氏（大阪公立大学教授/東北大学教授 大学院工学研究科 物質化学生命系専攻 化学バイオ工学分野 高分子化学研究室）
概要 半導体は、素子の集積率が高いほど高性能になり、回路の微細化が必須で、現在、一つの半導体の素子数は10億単位まで増え、微細な回路を描くのに不可欠な材料の一つが、フォトレジスト（以下レジストと略）です。レジストは、ポリマー（高分子）・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学薬剤で、光によって性質が変化する。半導体は、リソグラフィー工程と称される、成膜、パターン作製（レジスト塗布、露光、現像）、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされる工程からなり、おおよそ２０回から３０回繰り返される。本講演では、特にレジスト材料（感光性樹脂）・プロセスについて解説するとともに、また、元デバイスメーカーに席を置いた者の視線で、半導体産業の動向について紹介する。
協力金のお願い；今期も当面はオンラインにて技術研修会を開催する予定です。オンライン設備の更新、経費等が発生しております。今期も昨年と同様に3,000円の協力金をお願いいたします。2026年3月末までに所定の振込先にお願いいたします。
※お問い合わせ：E-mail： tmc-osk@crux.ocn.ne.jp TEL 06-4963-9876（TMC事務局）